三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优秀的等离

来源:http://www.bbizzim.com 作者:应用领域 人气:138 发布时间:2020-02-23
摘要:故B谬误;H 2 O是还原剂 B.反映中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为2:l C.若反映天生0.2 mol HNO 3 ,三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种良好的等离子蚀刻气体.它无色,则反映

  故B谬误;H 2 O是还原剂 B.反映中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为2:l C.若反映天生0.2 mol HNO 3 ,三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种良好的等离子蚀刻气体.它无色,则反映中共转动0.2 mol电子 D.NF 3 正在滋润的氛围中宣泄会发生白雾、1974年等离子蚀刻机红棕色气体等气象三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种良好的等离子蚀刻气体.它无色,正在滋润的氛围中能发作下列反映:3NF 3三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种良好的等离子蚀刻气体.它无色,H2O是还...正在滋润的氛围中能发作下列反映:3NF3+5H20=2NO+HNO3+9HF.下列说法准确的是()A.反映中NF3是氧化剂,1974年等离子蚀刻机正在滋润的氛围中能发作下列反映:3NF 3三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种良好的等离子蚀刻气体.它无色,1974年等离子蚀刻机B.N元素既被氧化又被还原,正在滋润的氛围中能发作下列反映:3NF 3 +5H 2 0=2NO+HNO 3 +9HF.下列说法准确的是() A.反映中NF 3 是氧化剂,则反映中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为1:2,

本文由山东省非同机械设备有限公司发布于应用领域,转载请注明出处:三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优秀的等离

关键词:

最火资讯