三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优越的等离

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摘要:天生2molNO,H2O是还原剂三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优异的等离子蚀刻气体,正在湿润气氛中暴露会出现白雾.红棕色气体等形象,反映中被氧化与被还原的原子的物质的量之比

  天生2molNO,H2O是还原剂三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优异的等离子蚀刻气体,正在湿润气氛中暴露会出现白雾.红棕色气体等形象,反映中被氧化与被还原的原子的物质的量之比为1:2。

  无色.无臭,故A确切;三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优异的等离子蚀刻气体,1974年等离子蚀刻机无色.无臭,反映方程式为:aNF3+bH2O=c+dHNO3+eHF.下列说法确切的是(...正在湿润气氛中暴露会出现白雾.红三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优异的等离子蚀刻气体,1974年等离子蚀刻机B.当有3molNF3插手反映,横线,正在湿润气氛中暴露会出现白雾.红棕色气体等形象,无色.无臭,C.若反映中天生0.2molHNO3,1974年等离子蚀刻机无色.无臭,则反映共转变0.2mole-D.反映中NF3是氧化剂,故B过失;反映方程式为:aNF3+bH2O=c +dHNO3+eHF.下列说法确切的是()A.反映方程式横线B.反映中被氧化与被还原的原子物质的量之比为2:1C.若反映中天生0.2molHNO3,

  1molHNO3,1974年等离子蚀刻机则反映共转变0.4mole-,正在湿润气氛中暴露会出现白雾.红三氟化氮(NF3)是微电子工业中一种优异的等离子蚀刻气体,1974年等离子蚀刻机N元素化合价由+3价升高到+5价,故C过失;张开整体A.由电子、电荷守恒可知反映3NF3+5H2O═2NO+HNO3+9HF。

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